硅膠制品光鍍是指將金屬(或介質)膜(或多層金屬)鍍在光學零件表面的工藝過程。光電器件表面鍍膜的目的是達到減少或增加光的反射性、分束性、分色性、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學鍍。

光涂(tu)層原理：

負壓電鍍(du)(du)主要(yao)是指需(xu)要(yao)在(zai)較高真(zhen)空下進行電鍍(du)(du)，包(bao)括真(zhen)空離子蒸發(fa)、磁控濺射、 MBE分子束外延、 PLD激(ji)光濺射沉積(ji)等(deng)，所以。蒸發(fa)器(qi)和(he)濺射器(qi)通用。用鍍(du)(du)層材(cai)料制成基(ji)(ji)材(cai)，用鍍(du)(du)層材(cai)料作(zuo)為靶(ba)材(cai)或藥材(cai)。基(ji)(ji)體和(he)靶(ba)體在(zai)同一真(zhen)空狀(zhuang)態下。

蒸發層(ceng)通常是加熱的目標，將表(biao)面成分(fen)蒸發成自由基(ji)或離(li)子(zi)，然(ran)后(hou)通過(guo)合成沉積在基(ji)底(di)上，膜層(ceng)上。關于濺射涂層(ceng)，很容易理解，目標材料被(bei)電子(zi)或高能激光(guang)轟擊，表(biao)面成分(fen)以自由基(ji)或離(li)子(zi)的形式(shi)濺射，最后(hou)沉積在基(ji)體(ti)表(biao)面，形成薄膜。

常(chang)用光(guang)學涂層(ceng)材(cai)料(liao)有以下幾種：

無色晶(jing)系粉末，純(chun)度高(gao)，用(yong)它制備光學鍍膜，能提高(gao)透光性，不產生崩點(dian)。

高熔點、硬度(du)、化學(xue)穩(wen)定性良好的(de)(de)無(wu)色透明晶體。采用該工藝(yi)制備的(de)(de)優質Si02涂層，具有良好的(de)(de)蒸發狀態，無(wu)崩點。按用途可分為紫外線、紅外線和(he)可見(jian)光(guang)用。

重質結晶態(tai)，折射率高(gao)，耐高(gao)溫性好(hao)，化學性質穩定，純度高(gao)，可制得(de)優質氧(yang)化鋯涂層，無崩點(dian)。